光刻膠是一種高分子化合物,主要用于微電子制造中的光刻工藝。光刻膠的應用廣泛,可以用來制造芯片、光學器件、MEMS(微機電系統(tǒng)) 等微型器件。
光刻膠的生產過程需要控制溫度,以保證其分子結構和性能的穩(wěn)定性。如果溫度過高或過低,都會影響光刻膠的質量,導致產品質量下降或報廢。
光刻膠控溫防爆模溫機是一款專為光刻膠生產而設計的設備,具有以下優(yōu)點:
整機隔離式防爆:由于光刻膠在反應過程中會產生一定的氣體,如果不加以控制,可能會引起火災或爆炸。我們的防爆模溫機采用了整機隔離式防爆設計,符合EXdIIBT4 級別的標準,可以有效防止火花、靜電或熱源引發(fā)的危險。
PLC編程控制:光刻膠控溫防爆模溫機采用了先進的 PLC 編程控制系統(tǒng),可以根據您的工藝要求,自動調節(jié)溫度、壓力、流量等參數。您可以通過觸摸屏或遠程控制器,方便地監(jiān)測和使用設備。
帶冷卻功能:光刻膠控溫防爆模溫機具有強大的冷卻功能,可以在反應釜控溫光刻膠時,及時將多余的熱量排出,保持反應溫度在150度左右,可以提高冷卻效率和節(jié)省空間。
使用光刻膠控溫防爆模溫機,可以提高光刻膠的生產效率和質量,減少成本和風險。光刻膠控溫防爆模溫機已經成功應用于多家半導體材料行業(yè)的客戶,獲得了一致好評。